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激光 分子束外延系統(tǒng) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 87 簡(jiǎn)要描述：激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)。它能在高真空、真空條件下實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜原子尺度層狀外延生長(zhǎng)。這一系統(tǒng)適用于多種有機(jī)、無(wú)機(jī)薄膜的制備，尤其適宜于用其它制膜設(shè)備和方法難以制備的高熔點(diǎn)、多元素（特別是含有氣體元素時(shí)）、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜和超晶格的制備。對(duì)比
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剝離成形電子束設(shè)備 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 9 簡(jiǎn)要描述：剝離成形電子束設(shè)備：對(duì)于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來(lái)完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時(shí)，就可以采用 Lift-Off制程來(lái)做出想要的金屬圖案。在此過(guò)程中，電子束蒸發(fā)于在基板表面上沉積所需的薄膜層于犧牲層于基材上，最終在洗去其犧牲層，以得到其電路圖案。對(duì)比
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超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 123 簡(jiǎn)要描述：超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分常見(jiàn)。超高真空環(huán)境對(duì)于科學(xué)研究非常重要，因?yàn)閷?shí)驗(yàn)通常要求，在整個(gè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程中，表面應(yīng)保持無(wú)污染狀態(tài)和使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)的使用，而不會(huì)受到氣相散射的過(guò)度干擾。對(duì)比
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電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 13 簡(jiǎn)要描述：電子束蒸鍍?cè)O(shè)備是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個(gè)坩堝來(lái)達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì)。單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)可以控制蒸發(fā)速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。對(duì)比
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電子束蒸鍍 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 15 簡(jiǎn)要描述：電子束蒸鍍?yōu)橐环N物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，其中電子束是由鎢絲所產(chǎn)生的，並受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)以沉積在基板表面上。且該過(guò)程需在高真空環(huán)境中，以通過(guò)自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。對(duì)比
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多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 14 簡(jiǎn)要描述：多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備廣泛用於各個(gè)領(lǐng)域，而對(duì)於精密系統(tǒng)則需要更嚴(yán)格的規(guī)格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無(wú)法滿(mǎn)足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中，高質(zhì)量多層膜的作用變得越來(lái)越重要。因此，新材料的開(kāi)發(fā)和薄膜的精確控制製程已成為當(dāng)前多層薄膜研究的重要方向。對(duì)比
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Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 23 簡(jiǎn)要描述：Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam憑借其的聚焦離子束和電子束性能、專(zhuān)有軟件、自動(dòng)化和易用性特征，重新定義了樣品制備和三維表征的標(biāo)準(zhǔn)。對(duì)比
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具有分辨率的直接激光刻錄機(jī) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 28 簡(jiǎn)要描述：具有分辨率的直接激光刻錄機(jī)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個(gè)激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶(hù)友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。對(duì)比
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激光光刻系統(tǒng) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 18 簡(jiǎn)要描述：激光光刻系統(tǒng)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個(gè)激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶(hù)友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。對(duì)比
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大面積 SEM 成像 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 15 簡(jiǎn)要描述：大面積 SEM 成像通過(guò) CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克對(duì)比
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聚焦離子束掃描電鏡系統(tǒng) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 47 簡(jiǎn)要描述：聚焦離子束掃描電鏡系統(tǒng)用于以 FIB 為中心的納米加工的 FIB-SEMVELION 是一種用于納米科學(xué)與工程的新型 FIB-SEM 儀器概念。FIB 納米加工已成為制造三維和高分辨率納米結(jié)構(gòu)（例如等離子體裝置、納米流體、局部注入和功能化）的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)對(duì)比
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專(zhuān)用電子束光刻系統(tǒng) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 14 簡(jiǎn)要描述：專(zhuān)用電子束光刻系統(tǒng)這些創(chuàng)新、智能配置的電子束光刻系統(tǒng)可以輕松有效地實(shí)現(xiàn)納米加工。所有 Raith EBL 系統(tǒng)都配備了高精度激光干涉儀平臺(tái)和圖案發(fā)生器，可為您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、無(wú)拼接錯(cuò)誤曝光模式以及Nanosuite（直觀且全面的納米光刻軟件） ）使 Raith 的系統(tǒng)有別于其他納米光刻設(shè)備。聯(lián)系我們討論哪種系統(tǒng)適合您的需求。對(duì)比
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德國(guó)電子束曝光 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 14 簡(jiǎn)要描述：德國(guó)電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫(xiě)場(chǎng)大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過(guò)程只需要編輯曝光的相關(guān)參數(shù)，其他過(guò)程均可自動(dòng)完成。對(duì)比
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國(guó)產(chǎn)電子束光刻 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2024-08-07 瀏覽次數(shù) 31 簡(jiǎn)要描述：國(guó)產(chǎn)電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫(xiě)場(chǎng)大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過(guò)程只需要編輯曝光的相關(guān)參數(shù)，其他過(guò)程均可自動(dòng)完成對(duì)比
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K/Mg/Fe Mica 鉀/鎂/鐵 云母 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 32 A member of layered mica family but the exact chemical formula has been adjusted in such a way that resulting materials are K, Mg, and Fe對(duì)比
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V1級(jí)二維材料襯底 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 26 An ideal substrate – template for two-dimensional （2D） materials to eliminate ripple, surface roughness, and doping （charge transfer） effects.對(duì)比
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石墨烯銅線(xiàn) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 31 本產(chǎn)品為表面鍍有石墨烯薄膜的單晶銅線(xiàn)，石墨烯的性質(zhì)可以增強(qiáng)銅線(xiàn)本身的導(dǎo)電性，支持定制。對(duì)比
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IC半導(dǎo)體級(jí) SIO2 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 28 產(chǎn)品名稱(chēng)：4英寸二氧化硅拋光硅片 （SiO2）生長(zhǎng)方式：直拉單晶（CZ） 熱氧化工藝直徑與公差：100#177;0.4mm摻雜類(lèi)型：N型（摻磷、砷、銻） P型（摻硼）晶向：lt;111gt;lt;100gt;電阻率：0.001-50（Ω?cm） 可按客戶(hù)要求定制對(duì)比
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CVD石墨烯專(zhuān)用銅箔 Copper foil 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 32 CVD石墨烯專(zhuān)用銅箔 Copper foil尺寸：10*20cm純度：99.99%厚度：46um寬度：25cm（10片起售）對(duì)比
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Spectrum 電學(xué)測(cè)試性底座 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 15 Spectrum 電學(xué)測(cè)試性底座044 LDCC Mfg Dwg: SD-560-9185-A Cav: .340 x .340 D/A Plating: AU（10片起售）對(duì)比
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Spectrum 電學(xué)測(cè)試性底座1 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 11 Spectrum 電學(xué)測(cè)試性底座044 LDCC Mfg Dwg: PB-12941-D-JMI Cav: .300 x .300 D/A Plating: AU（10片起售）對(duì)比
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UniversityWafer 硅片 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 13 Silicon 100mm diameter, P/Boron, （100） 1-10 ohm-cm 500um SSP SEMI Prime Grade, Bow AND Warp lt;30um, TTV lt;10um, Ra:lt;4nm with 285 nm thermal oxide對(duì)比
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新加坡BONDATEK 硅 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 11 新加坡BondaTek是一家微系統(tǒng)科技公司，主要提供半導(dǎo)體材料在精細(xì)領(lǐng)域內(nèi)的專(zhuān)業(yè)服務(wù)和技術(shù)支持，以及其他相關(guān)生物醫(yī)學(xué)設(shè)備及微機(jī)電系統(tǒng)。對(duì)比
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硅/二氧化硅晶片（5片） 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 12 硅/二氧化硅晶片（5片）Wafers - Silicon/Silicon Dioxide Wafer對(duì)比
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金云母 （10片裝） 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 7 金云母 MICA phlogopite （Phlogopite, KMg3AlSi3O10（OH）2）晶體結(jié)構(gòu)：六角形類(lèi)型：自然晶體尺寸：25 x 25 x 0.15mm純度：gt; 99.995%屬性：gt;高對(duì)比
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白云母（10片裝） 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 9 白云母 MICA muscovite V1 （Muscovite, K2O-Al2O3-SiO2）晶體尺寸：~25mm電學(xué)性能：絕緣體晶體結(jié)構(gòu)：?jiǎn)涡本ЫY(jié)構(gòu)晶胞參數(shù)：a = 0.519, a = 0.901, c = 1.996 nm, α = γ = 90#176;, β =95.89#176;晶體類(lèi)型：天然晶體純度：純度的天然晶體，V1級(jí)晶體包裝：10片裝對(duì)比
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白云母（5片裝） 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 11 白云母 MICA muscovite V1 （Muscovite, K2O-Al2O3-SiO2）晶體尺寸：~25mm電學(xué)性能：絕緣體晶體結(jié)構(gòu)：?jiǎn)涡本ЫY(jié)構(gòu)晶胞參數(shù)：a = 0.519, a = 0.901, c = 1.996 nm, α = γ = 90#176;, β =95.89#176;晶體類(lèi)型：天然晶體純度：高純度的天然晶體，V1級(jí)晶體包裝：5片裝對(duì)比
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白云母（1片裝） 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-05-21 瀏覽次數(shù) 9 白云母 MICA muscovite V1 （Muscovite, K2O-Al2O3-SiO2）晶體尺寸：~25mm電學(xué)性能：絕緣體晶體結(jié)構(gòu)：?jiǎn)涡本ЫY(jié)構(gòu)晶胞參數(shù)：a = 0.519, a = 0.901, c = 1.996 nm, α = γ = 90#176;, β =95.89#176;晶體類(lèi)型：天然晶體純度：高純度的天然晶體，V1級(jí)晶體包裝：1片裝對(duì)比
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pevcd化學(xué)氣相沉積設(shè)備均勻可控 用于有機(jī)單體聚合成膜 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 33 1、工作條件 ?。?）環(huán)境溫度：0-40℃對(duì)比
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電子束光學(xué)鍍膜機(jī) 氣相沉積鍍膜 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 25 產(chǎn)品參數(shù)： 電子束鍍膜設(shè)備 主要用途： 用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)對(duì)比
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丹東桌面級(jí)鍍膜設(shè)備廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 31
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桌面級(jí)鍍膜機(jī)器 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 31
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聯(lián)合鍍膜設(shè)備 真空設(shè)備廠家銷(xiāo)售 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 29 產(chǎn)品參數(shù)： 電子束鍍膜設(shè)備 主要用途： 用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)對(duì)比
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實(shí)驗(yàn)鍍膜機(jī)訂做 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 28
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實(shí)驗(yàn)鍍膜機(jī)采購(gòu) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 25
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沈陽(yáng)小型實(shí)驗(yàn)鍍膜設(shè)備廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 28
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實(shí)驗(yàn)鍍膜設(shè)備訂做 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 26
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雙源電阻熱蒸發(fā)設(shè)備生產(chǎn)廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 27
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實(shí)驗(yàn)蒸發(fā)鍍膜真空設(shè)備訂做 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 11
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pevcd化學(xué)氣相沉積專(zhuān)用用于有機(jī)單體 緊湊型實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 6 1、工作條件 （1）環(huán)境溫度：0-40℃對(duì)比
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沈陽(yáng)雙源電阻熱蒸發(fā)設(shè)備廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 8
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電子束光學(xué)鍍膜機(jī) 磁控濺射鍍膜 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 9 產(chǎn)品參數(shù)： 電子束鍍膜設(shè)備 主要用途： 用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)對(duì)比
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成都磁控濺射鍍膜機(jī)生產(chǎn)廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 5 產(chǎn)品參數(shù) 可以得到一致的膜厚，和的導(dǎo)電噴鍍效果對(duì)比
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電子束鍍膜機(jī)器采購(gòu) 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 6 產(chǎn)品參數(shù)： 電子束鍍膜設(shè)備 主要用途： 用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)對(duì)比
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沈陽(yáng)實(shí)驗(yàn)鍍膜機(jī)器廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 7
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真空鍍膜機(jī)價(jià)格 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 8
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鍍膜設(shè)備生產(chǎn)廠家 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SLZF270A 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 6
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電子束鍍膜設(shè)備 磁控濺射鍍膜 參考價(jià) ￥面議
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品牌 型號(hào) SL200L 類(lèi)型 實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng) 廠商性質(zhì) 其他 更新時(shí)間 2023-04-19 瀏覽次數(shù) 6 產(chǎn)品參數(shù)： 電子束鍍膜設(shè)備 主要用途： 用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)對(duì)比
